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清溢光電業(yè)績會:積極布局高端掩膜版核心技術(shù) 加速國產(chǎn)替代
來源:證券時報網(wǎng)作者:李映泉2025-05-06 19:27

5月6日,清溢光電(688138)舉行2024年度暨2025年第一季度業(yè)績說明會。在此之前,清溢光電于4月底公布了2024年年報和2025年一季報,公司2024年實現(xiàn)營業(yè)收入11.12億元,同比增長20.35%;凈利潤為1.72億元,同比增長28.49%;2025年一季度實現(xiàn)營業(yè)收入2.99億元,同比增長9.83%,凈利潤為5174.22萬元,同比增長4.34%。

資料顯示,清溢光電自成立以來一直專注于掩膜版的研發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)和銷售,是國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一。掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版,承載了圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息,是下游電子產(chǎn)品精度和質(zhì)量的重要決定因素之一,在產(chǎn)業(yè)鏈中起著承上啟下的關(guān)鍵作用,主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等行業(yè)。

清溢光電被市場視作國內(nèi)掩膜版行業(yè)的開拓者之一,在行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)制定、國產(chǎn)化及產(chǎn)業(yè)鏈完善等方面發(fā)揮了重要作用,產(chǎn)品曾多次填補掩膜版領(lǐng)域國內(nèi)空白。公司主導(dǎo)編制的《薄膜晶體管(TFT)用掩模版規(guī)范》(SJ∕T11516-2015)于2015年經(jīng)工信部批準(zhǔn)頒布并實施,填補了掩膜版領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)空白。在掩膜版國產(chǎn)替代的機遇下,清溢光電制定了“平板顯示掩膜版+半導(dǎo)體芯片掩膜版”互促共進的“雙翼齊飛”戰(zhàn)略。

據(jù)清溢光電董事長唐英敏在業(yè)績說明會上介紹,2024年,清溢光電平板顯示掩膜版業(yè)務(wù)實現(xiàn)營業(yè)收入8.59億元,同比增長17.59%。其中,AMOLED/LTPS掩膜版同比增長21.75%。這一增長主要得益于子公司合肥清溢光電有限公司產(chǎn)銷規(guī)模的繼續(xù)爬升,憑借充足的產(chǎn)能與穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量從客戶端爭取到更多高規(guī)產(chǎn)品的訂單。

目前,清溢光電AMOLED/LTPS掩膜版已廣泛應(yīng)用到下游AMOLED和LTPS顯示面板的產(chǎn)品上,包括平板電腦、手機、筆記本、手表、智能駕駛等產(chǎn)品。

2024年,清溢光電半導(dǎo)體芯片掩膜版的營業(yè)收入為1.93億元,較上年同期增長33.98%,高于公司整體收入增速。唐英敏分析稱,主要原因是公司半導(dǎo)體業(yè)務(wù)新增設(shè)備產(chǎn)能釋放,以及客戶開發(fā)成果逐步落地。此外,公司150nm工藝節(jié)點半導(dǎo)體芯片掩膜版已實現(xiàn)小規(guī)模量產(chǎn),并在推進130nm-65nm的PSM和OPC工藝的掩膜版開發(fā)。

有投資者關(guān)注到公司石英/蘇打掩膜版業(yè)務(wù)市占率情況,唐英敏回應(yīng)稱,公司在國內(nèi)石英掩膜版和蘇打掩膜版市場均已取得一定份額,通過技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)能擴張以及產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的優(yōu)化,有望進一步提升市場份額。2024年,得益于產(chǎn)能利用率的提高和產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的優(yōu)化,公司的整體毛利率為29.44%,比上年增加2.07個百分點,其中石英掩膜版的毛利率為28.40%,蘇打掩膜版的毛利率為42.72%。

對于公司2025年的經(jīng)營預(yù)期,清溢光電董事會秘書、財務(wù)總裁任新航表示,2025年,公司佛山生產(chǎn)基地已于4月10日完成首臺主設(shè)備搬入,進入設(shè)備安裝調(diào)試階段,產(chǎn)能有望進一步釋放。近年來,隨著平板顯示和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,掩膜版市場需求旺盛。

同時,公司持續(xù)投入研發(fā),已實現(xiàn)8.6代高精度TFT用掩膜版、6代中高精度AMOLED/LTPS等掩膜版,以及中高端半透膜掩膜版(HTM)產(chǎn)品的研發(fā)與量產(chǎn),積極布局先進的高規(guī)格半透膜掩膜版(HTM)與高規(guī)格相移掩膜版(PSM)技術(shù),這兩項技術(shù)將成為未來高端掩膜版的核心技術(shù),這兩項技術(shù)的量產(chǎn)將加速高端掩膜版產(chǎn)品的國產(chǎn)替代。

責(zé)任編輯: 張一帆
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